Aluminium oxide formation via atomic layer deposition using a polymer brush mediated selective infiltration approach
Area selective deposition (ASD) is an emerging method for the patterning of electronic devices as it can significantly reduce processing steps in the industry. A potential ASD methodology uses infiltration of metal precursors into patterned polymer materials. The work presented within demonstrates t...
محفوظ في:
| مؤلفون آخرون: | , , , , , , , , , , , |
|---|---|
| التنسيق: | Artículo |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2020
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2020.145987 https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0169433220307431 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
