Aluminium oxide formation via atomic layer deposition using a polymer brush mediated selective infiltration approach
Area selective deposition (ASD) is an emerging method for the patterning of electronic devices as it can significantly reduce processing steps in the industry. A potential ASD methodology uses infiltration of metal precursors into patterned polymer materials. The work presented within demonstrates t...
שמור ב:
| מחברים אחרים: | , , , , , , , , , , , |
|---|---|
| פורמט: | Artículo |
| שפה: | English |
| יצא לאור: |
2020
|
| נושאים: | |
| גישה מקוונת: | https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2020.145987 https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0169433220307431 |
| תגים: |
הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!
|
