Growth chemistry and electrical performance of ultrathin alumina formed by area selective vapor phase infiltration

Growth chemistry and electrical performance of ultrathin alumina formed by area selective vapor phase infiltration

The growth chemistry and electrical performance of 5 nm alumina films, fabricated via the area-selective vapor phase infiltration (VPI) of trimethylaluminum into poly(2-vinylpyridine), are compared to a conventional plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) process. The chemical properties are...

Πλήρης περιγραφή

Αποθηκεύτηκε σε:
Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Άλλοι συγγραφείς: Snelgrove, Matthew, Mani Gonzalez, Pierre Giovanni, McFeely, Caitlin, Hughes, Gregory, Weiland, C, Woicik, Joshep, Shiel, Kyle, Ornelas, Carlos, Solis-Canto, Óscar, Cherkaoui, K, Hurley, P, Yadav, Pravind, Morris, Michael, McGlynn, Enda, O'Connor, Rob
Μορφή: Artículo
Γλώσσα:English
Έκδοση: 2022
Θέματα:
info:eu-repo/classification/cti/7
Διαθέσιμο Online:https://doi.org/10.1016/j.mee.2022.111888
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0167931722001824
Ετικέτες: Προσθήκη ετικέτας
Δεν υπάρχουν, Καταχωρήστε ετικέτα πρώτοι!

Παρόμοια τεκμήρια

Παρόμοια τεκμήρια