Growth chemistry and electrical performance of ultrathin alumina formed by area selective vapor phase infiltration

Growth chemistry and electrical performance of ultrathin alumina formed by area selective vapor phase infiltration

The growth chemistry and electrical performance of 5 nm alumina films, fabricated via the area-selective vapor phase infiltration (VPI) of trimethylaluminum into poly(2-vinylpyridine), are compared to a conventional plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) process. The chemical properties are...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
مؤلفون آخرون: Snelgrove, Matthew, Mani Gonzalez, Pierre Giovanni, McFeely, Caitlin, Hughes, Gregory, Weiland, C, Woicik, Joshep, Shiel, Kyle, Ornelas, Carlos, Solis-Canto, Óscar, Cherkaoui, K, Hurley, P, Yadav, Pravind, Morris, Michael, McGlynn, Enda, O'Connor, Rob
التنسيق: Artículo
اللغة:English
منشور في: 2022
الموضوعات:
info:eu-repo/classification/cti/7
الوصول للمادة أونلاين:https://doi.org/10.1016/j.mee.2022.111888
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0167931722001824
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

مواد مشابهة

مواد مشابهة